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PlasmaX-Lab 全能型實驗等離子表面處理設備

簡介：

PlasmaX-Lab是一款專為精密表面工程設計的高端等離子表面處理設備，具備卓越的性能與靈活性，滿足高精度處理要求。其450 x 300 x 300 mm的鋁質構造反應艙配備可視窗口，提供40.5升的處理空間，適應廣泛的實驗需求。采用獨特的二級等離子設計和水冷電極，確保處理過程中的均勻性和效率。

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產品介紹規格參數應用領域

產品介紹

PlasmaX-Lab全能型實驗等離子表面處理設備，是一款專為精密表面工程設計的高端工具。其鋁質構造的450 x 300 x 300mm反應艙配備可視窗口，提供40.5升的寬敞處理空間，支持大范圍的實驗需求。采用獨特的二級等離子設計和水冷電極，PlasmaX-Lab保證了處理過程中的極致均勻性和效率，滿足了高精度表面處理的嚴格要求。

該設備搭載高效的螺桿真空泵和精確的薄膜規真空計，能快速達到所需的處理環境，同時保證過程中的穩定性。其PLC控制系統通過觸摸屏操作，提供自動化處理流程、精確監控和參數調整能力，大大提高了操作便利性和處理的可重復性。PlasmaX-Lab還支持雙氣體輸入，配有先進的氣體流量控制器和液體輸入系統，確保了處理過程的靈活性和多樣性。

此外，PlasmaX-Lab強調安全性能，配備急停開關以應對緊急情況，確保使用過程中的安全。其380V AC, 50HZ, 40A的電源需求，配合0~300W可調的頻射發生器，使得該設備不僅適用于多種材料處理，同時也兼顧環保和能效。

PlasmaX-Lab 處理艙

PlasmaX-Lab 等離子放電觀測

規格參數

反應艙	材料：特種鋁，厚度：20 mm
	有效尺寸：450 x 300 x 300 mm
	容積：40.5升
	艙門：裝有可視窗口
	電極：二級等離子設計，保證單層均勻性和層間均勻性。同時包含水冷電極。
	樣品盤：1套，尺寸：350 x 250 mm
真空度測量	皮拉尼真空計+薄膜規真空計，保證真空度測量精度
真空泵	干泵：抽速：20至80立方米/小時可選
頻射發生器	0~300W可調，MHz發生器
控制系統	觸摸屏操作，PLC控制系統
	PLC可實現下列功能：
	自動控制反應過程；
	根據處理材料設定不同的處理工藝流程；
	測定真空度、抽真空時間、充氣流速、處理時間、溫度、頻射發生器輸入功率等指標；
	監測所有的運行指標，保證在設定范圍之內；
	設定操作、維護密碼。
電源	380V AC，50HZ，40A
反應氣體	2個氣體輸入端口，含氣體流量控制器（MFC）
氣體輸入	直徑1/4”管道；輸入壓力：1Bar
液體輸入	包含液態單體氣化裝置，可以設定液態單體流量，氣化溫度
工藝氣體控制器	標配2路（最多可配置5路）
工藝單體輸送器	標配1路，可選擇超疏水單體或超親水單體（可配置2路）
尾氣排放	包含尾氣輸出端口
安全性能	急停開關

應用領域

設備功能：

─ 等離子清洗

─ 等離子活化

─ 等離子表面枝接

─ 等離子鍍膜：超親水鍍膜，超疏水鍍膜